高密度等离子体刻蚀机是为亚0.25微米图形尺寸而开发的最重要的干法刻蚀系统。

为什么0.25微米以下工艺的干法刻蚀需要高密度等离子体？

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与干法刻蚀相比，湿法腐蚀的好处在于对下层材料具有高的选择比，对器件不会带来等离子体损伤，并且设备简单。

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干法刻蚀是亚微米尺寸下刻蚀器件的最主要方法，湿法腐蚀一般只是用在尺寸较大的情况下刻蚀器件，例如大于3微米。

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缩略语PECVD、LPCVD、HDPCVD和APCVD的中文名称分别是（）、（）、高密度等离子体化学气相淀积和（）。

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刻蚀的高选择比意味着只刻除想要刻去的那一层材料。

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等离子弧切割具有切割速度高，能切割各种金属，能耗比低，切割厚度比较大。

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等离子切割机也与其他焊接设备一样，采用低电压、高电流的工作方式。

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测试机织物经纱或纬纱的密度，若起点位于两根纱线中间，终点位于最后一根纱线上，不足0.25根的不计，0.25—0.75根作（）根计，0.75根以上作（）根计。

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（）目的是为确定最高钻井液密度和关井极限压力提供依据。

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