化学加工采用（）制备掩膜，不仅将涂覆和刻划两道工序合二为一，而且可以做到更加细密。

水乳型沥青防水涂料涂膜制备时，样品（）涂覆（每次间隔8h~24h）。

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刻度线的高度与（）有关，刻度线的数量由（）决定；刻度标数的递增方向一般是：顺时针方向为增加；从左向右的方向为增加；从下向上的方向为增加。字符中汉字推荐采用宋体或黑体，字符的大小根据视距确定。圆形仪表的刻度直径与视距和刻度数有关。

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解释亮场掩膜版和暗场掩膜版。

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试叙述什么是激光熔覆和表面合金化。并分析两者间异同。

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80C51含（）掩膜ROM。

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什么是光敏度，移相掩膜，驻波效应？

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用化学反应方程式表示单质硅的制备反应，单质硅的主要化学性质，二氧化硅的制备和性质。

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冷冲压不仅可以加工（），而且还可以加工（）。

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投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。

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