A擦去原显像层重新进行显像
B立即再置于渗透剂中进行重新渗透
C采用干式显像,重新显示
D从预清洗开始重复渗透探伤全过程
显像剂在被检工件表面上的喷涂应()。
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用紫外线源及目视检查经后乳化荧光渗透探伤的工件,发现其表面荧光背景的本底水平较高,说明()
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在显像后经仔细观察未发现有缺陷显示,但发现有操作不当产生的错误显示,则应该()
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显像后,发现本底水平过高时,应重新清洗,然后再次显像。
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使用水基显像剂时,被检物表面()
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使用磁场指示器时,应将其放在被检工件表面上,使镀铜一面靠近被检工件表面。
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在被检工件上施加显像剂的目的是从缺陷中吸附渗透剂并提供背景反差
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渗透液在工件被检表面的喷涂应该()
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渗透液在被检工件表面上的喷涂应()
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