一般在蚀刻操作中蚀刻和再生是同时进行的。

在酸性氯化铜蚀刻液体系的再生方法中，由于氯气是强氧化剂，直接通氯气是再生的最好方法。是因为（）。

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在印制板的蚀刻操作中，希望有较高的蚀刻系数。

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晶体硅片蚀刻清洗的生产工艺有酸性蚀刻和碱性蚀刻两种，其中酸性蚀刻是采用（）和硝酸的混合溶液，醋酸和磷酸当缓冲剂，一般去除约10-20μm厚的表面层。

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碱性氯化铜蚀刻液的再生的最常用的方法是空气再生法。

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酸性氯化铜蚀刻液的再生的最好的方法是双氧水再生法。

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属于酸性蚀刻液再生的方法有（）。

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碱性蚀刻液再生方法有（）。

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蚀刻过程中为使加速蚀刻反应正向进行的措施有（）。

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板子在蚀刻机内部进行蚀刻时，其位置放置形式有（）。

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