A工作模修整时，前庭沟加深的部位在上颌
B工作模修整时，前庭沟加深的部位在下颌
C铺缓冲蜡时，至下唇挡外约5mm
D在上前牙近牙龈1／3处刻出1mm的深线，以利唇弓贴合
E唇挡截面呈泪滴状，下缘厚上缘薄
关于FR-Ⅲ矫正器，叙述不正确的是（）
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关于功能矫正器，叙述不正确的是（）
FR-Ⅲ矫治器的唇挡下缘在（）
FR0-Ⅲ矫治器的颊屏厚度（）
制作FR-Ⅲ矫治器工作模型时，上颌的前庭沟应（）
关于activator，叙述不正确的是（）
以下关于粘结的叙述，不正确的是（）
关于上颌斜面导板矫治器，叙述正确的是（）
关于正畸牙根吸收，叙述正确的是（）
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