简答题

比较投影掩模版和光学掩模版有何异同?说明采用什么技术形成投影掩模版上的图形?

正确答案

投影掩膜版:图形可能仅包含一个管芯,也可能是几个。容易形成亚微米图形;小曝光场,需要步进重复;光学缩小,允许较大的尺寸。
光学掩膜版:包含了对于整个硅片来说确定一工艺层所需的完整管芯阵列。没有缩小系统,很难形成亚微米图形;曝光场是整个硅片;掩膜与硅片有相同的关键尺寸。投影掩膜版的制造:电子束直接写。

答案解析

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