按孔与轴公差带之间的相对位置关系，配合可分为间隙配合和过盈配合两种。

滚动轴承内孔与轴的配合采用基轴制，轴承外圈与轴承箱采用基孔制。

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不论哪类配合，配合公差均等于相配合的孔公差与轴公差之和。

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基轴制是基本偏差为一定的轴的公差带与（）的孔的公差带形成各种配合的一种制度。

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基孔制是（）为一定的孔的公差带，与不同基本偏差的轴的公差带形成各种配合的一种制度。

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基轴制是基本偏差为一定的轴的公差带与不同基本偏差的孔的公差带形成各种配合的一种制度。

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基本偏差是用以确定公差带相对于（）的上偏差或下偏差，一般为靠近零线的那个偏差。

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（）组成的公差带，在各公差等级中都对称于零线，故基本偏差可为上偏差。

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孔的公差带在轴的公差带之下叫（）。

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传动扭矩的普通平键或半园键二侧与轴槽和轮毂均采用（）配合。

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