从电极的结构看，溅射的方法包括（）。
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溅射的方法非常多其中包括（）。
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（）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。
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薄膜沉积的机构，依发生的顺序，可以分为这几个步骤。其中不包括（）。
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用真空蒸发与溅射法在硅片或二氧化硅膜上涂敷金属材料，是形成电极的（）。
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真空镀膜室中的钟罩与底盘构成（）。
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真空镀膜室是由（）几部分组成。
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真空镀膜室内，在蒸发源加热器与衬底加热器之间装有活动挡板，用来（）。
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一般来说，我们用一定量的（）使阳树脂再生。
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