单选题

真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉,上釉有两种方法:自行上釉和分别上釉,其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟,高于体瓷烧熔温度的范围是()。

A31~40℃

B21~30℃

C10℃以内

D11~20℃

E5℃

正确答案

来源:www.examk.com

答案解析

采用体瓷、透明瓷自身上釉,需将炉温升至高于体瓷烧结温度10℃以内。
相似试题
  • 真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括()。

    单选题查看答案

  • 真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。在烤瓷过程中不能使烤瓷件与炉膛内壁接触,如果接触,可能造成的最严重的后果是()。

    单选题查看答案

  • 在全部温度范围内,烤瓷和烤瓷合金的温度膨胀系数之差必须在()。

    单选题查看答案

  • 烤瓷炉真空调节装置的作用是()。

    单选题查看答案

  • 用烤瓷炉烧烤烤瓷牙的温度范围是()。

    单选题查看答案

  • 在瓷熔附金属时,其金瓷匹配是十分关键的。烤瓷材料的烧结温度与金属的熔点的关系是()。

    单选题查看答案

  • 对烤瓷合金和烤瓷粉要求,错误的是()。

    单选题查看答案

  • 镍铬合金基底冠铸造后,在烤瓷前可进行的处理,除了()

    单选题查看答案

  • 镍铬合金基底冠铸造后,在烤瓷前可进行的处理,不包括()。

    单选题查看答案