已知平面体上点A、B、C、D 的两投影，求作第三面投影，并在立体图中标出其位置。

作图题：已知回转体表面上点A、B的一面投影，求作另外两面投影

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逻辑函数L= +A+B+C+D =（）。

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设下列反应  （1）A+B=C+D      ΔrHθm=－40kJ.mol-1      （2）C+D=E         ΔrHθm=60kJ.mol-1  试问下列反应的ΔrHθm各为多少？  A.C+D=A+B：（）  B.2C+2D=2A+2B：（） C.A B=E://（）

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写出下列各物质的共扼酸： （1）（a）CO32-；（b）HS-；（c）HO2；（d）HPO42-；（e）NH3；（f）S2-   （2）（a）H3PO4；（b）HAc  （c）HS-；（d）HNO2 ；（e）HClO；（f）H2CO3

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如下图，a，b，c为一条直线上的三个点，通过测量a、b 间的长度Sab 和a、c间的长度Sac来获得b、c间的长度Sbc。已知Sab、Sac的测量中误差分别为±3.0mm、±4.0mm，则Sbc的中误差为（）

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按图回答问题： 机构名称是（），构件名称是a是（）；b是（）；c是（）；d是（）。当取c杆为机架时的机构名称是（）。

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已知输入信号A和B的波形如图（a）所示，试画出图（b）、（ c）中两个触发器Q端的输出波形，设触发器初态为

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下图示出氙的氟化物和氧化物的分子（或离子）的结构。 （a）根据图形及VSEPR理论，指出分子的几何构型名称和所属点群；  （b）Xe原子所用的杂化轨道；  （c）Xe原子的表现氧化态；  （d）已知在XeF2·XeF4加合物晶体中，两种分子的构型与单独存在时的几何构型相同，不会相互化合成XeF3，从中说明什么问题？

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假定2A（g）+ B（g）→C（g） 为基元反应，已知反应速率常数k=a（L2· mol-2· s-1）。现在恒温下将2mol A和1mol B置于1L容器内混合。  试求： （1）A和B各用去一半时的反应速率；  （2）A和B各用去2/3时的反应速率。

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