平面运动副所提供的约束为（）

平面低副机构中，每个转动副和移动副所引入的约束个数是相同的。

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当两构件构成运动副后，仍需保证能产生一定的相对运动，故在平面机构中，每个运动副引入的约束至多为（），至少为（）。

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在平面机构中，平面低副提供（）个约束，平面高副提供（）个约束。

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平面运动副的最大约束数为（），最小约束数为（）。

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在平面机构中，具有两个约束的运动副是（）副，具有一个约束的运动副是（）副。

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平面运动副的最大约束数为（）。

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在平面机构中，具有两个约束的运动副是低副，具有一个约束的运动副是高副。

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平面运动副中，一个转动副引入（）约束。

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平面运动副中，一个高副引入（）个约束。

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