简答题

阴树脂再生时温度控制多少?为什么?是否温度越高越好?为什么?

正确答案

(1)阴树脂再生时温度控制在40~50℃之间
(2)因为高温再生加快了离子扩散和交换速度故可加快再生速度,可提高二氧化硅的洗脱率,增加再生的彻底性,再生剂可以节约2/5左右,再生度可以提高7%左右(比常温再生)
(3)不是
(4)温度过高可使树脂的功能基团降解,从而影响工作交换容量,缩短运行周期。

答案解析

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