填空题

SiO2-Si界面的杂质分凝:()过程中,()在两种材料中重新分布,()吸引受主杂质(B)、排斥施主杂质(P、As)。

正确答案

来源:www.examk.com

答案解析

相似试题
  • 一精馏操作过程,当塔顶塔板气相中含有永久性气体时,塔顶是采用全凝器还是分凝器更合适?

    简答题查看答案

  • ()是碱法生产氧化铝过程中最有害的杂质。

    单选题查看答案

  • 在下述去除杂质的方法中,属于纯水制备过程中去除细菌的方法是()。

    单选题查看答案

  • 镀铬溶液中的金属杂质对镀铬过程有何影响,如何处理?

    简答题查看答案

  • 在下述去除杂质的方法中,属于纯水制备过程中去除有机物的方法是()。

    单选题查看答案

  • 银为什么是金电解精炼过程中危害最大的杂质?怎样消除?

    简答题查看答案

  • 原料含有害杂质、使坯、釉料中混入含铁杂质且在坯、釉料精制过程未能充分磨细、过筛会导致产品()。

    单选题查看答案

  • 人机界面设计,首要的是人与机器的信息交流过程中的()。

    单选题查看答案

  • 重量分析中,当杂质在沉淀过程中以混晶形式进入沉淀时,主要是由于()

    单选题查看答案