按蒸发源加热方法的不同，真空蒸发工艺可分为：（）蒸发、（）蒸发、离子束蒸发等。

最常用的金属膜制备方法有（）加热蒸发、（）蒸发、（）。

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金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜，带胶蒸发或溅射所需的金属，然后在去除光致抗蚀剂膜的同时，把胶膜上的金属一起去除干净。（）

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热蒸发法淀积薄膜的淀积速率与哪些因素有关？淀积速率的测量采用什么办法？

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离子源是产生离子的装置。（）

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从离子源引出的是：（）

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恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为（）分布。

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简述几种典型真空泵的工作原理。

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恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布？（）

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场效应晶体管的栅源电压变化可以控制漏电流变化。（）

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