投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。
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对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。
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在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。
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80C51含（）掩膜ROM。
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什么是光敏度，移相掩膜，驻波效应？
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化学加工采用（）制备掩膜，不仅将涂覆和刻划两道工序合二为一，而且可以做到更加细密。
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亮场微弯传感器检测（）的变化，暗场微弯传感器检测（）的变化。两者相比较（）检测灵敏度高。
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光敏电阻的亮电流等于光电流和暗电流之和。
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光敏电阻的亮电阻和暗电阻之差越大，说明性能越好，灵敏度越高。
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