列出光刻的8个步骤，并对每一步做出简要解释。
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在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。
判断题查看答案
什么是光刻加工技术？试简述光刻加工的原理和工艺流程。
光刻加工技术的基本过程通常包括哪些步骤？
简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤。
光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。
填空题查看答案
晶圆的英文是什么？简述晶圆制备的九个工艺步骤。
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
光刻工艺包括哪些工艺？
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