在本征半导体中进行有意掺杂各种元素,可改变材料的电学性能。请解释什么是浅能级杂质、深能级杂质,它们分别影响半导体哪些主要性质;什么是杂质补偿?杂质补偿的意义何在?
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用于亚0.25μm工艺的选择性氧化的主要技术是浅槽隔离。
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什么是基础埋深?什么是深基础、浅基础?
什么是地基?什么是基础?对地基和基础的总体要求是什么?
什么样的基础叫高杯基础?
什么是刚性基础、柔性基础?
什么是刚性基础?刚性基础常见的有几种?
桥梁基础中扩大基础最常用的是什么式?
什么叫浅基础?浅基础的结构形式有哪些?
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