光刻区使用黄色荧光灯照明的原因是，光刻胶只对特定波长的光线敏感，例如深紫外线和白光，而对黄光不敏感。

有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。

判断题查看答案

最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。

判断题查看答案

光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。

填空题查看答案

对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。

判断题查看答案

解释光刻胶选择比，要求的比例是高还是低？

简答题查看答案

典型的DUV光刻胶曝光剂量的宽容度是多少？

简答题查看答案

如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。

判断题查看答案

曝光后烘焙，简称后烘，其对传统I线光刻胶是必需的。

判断题查看答案

列出并描述两种主要的光刻胶。

简答题查看答案