A真空度
B磁场强度
C体积
D温度
解释失效率及其单位,解释“浴盆曲线”各段的含义。
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在各种离子源常用的放电方式中,EOS是指有()。
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菲克一维扩散定律公式中的J是代表单位面积溶质()。
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()是指每个入射离子溅射出的靶原子数。
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沾污是指半导体制造过程中引入半导体硅片的任何危害微芯片()的不希望有的物质。
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企业的战略一般由四个要素组成,即经营范围、资源配置、竞争优势以及协同合作,其中协同合作是指企业通过共同的努力达到()。
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下列关于曝光后烘烤的说法正确的是()。
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离子注入的主要气体源中,剧毒的有()。
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从电极的结构看,溅射的方法包括()。
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