A 减小几何不清晰度
B 增加照射场的面积
C 提高照射场强度的均匀性
D 以上都是
用高能射线设备探伤时,增大焦距的主要目的是提高照射场强度的均匀性。
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射线探伤时,使用像质计的主要目的是()。
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在射线探伤中,对一定的缺陷尺寸来说,当焦点尺寸增大时,影像放大率(),导致影像()。
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产生高能Χ射线的设备有()。
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使用γ射线或高能Χ射线透照厚工件时,胶片类型和胶片()的选择十分重要。
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影响几何不清晰度的主要原因是射线源焦点尺寸、焦距、缺陷至胶片的距离和焦点至缺陷的距离。
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X射线工业电视探伤的主要优点是()。
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X射线工业电视探伤的主要缺点是()。
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射线探伤的基本原理是利用射线穿透物质时产生的()物理作用。
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