简答题

写出孔金属化工序中去钻污流程和化学镀铜流程的工艺步骤。

正确答案

高锰酸钾去钻污流程:溶胀→去钻污→中和还原 化学镀铜流程:清洗调整→水洗→微蚀→水洗→预浸→活化→水洗→速化→水洗→化学沉铜→水洗

答案解析

相似试题
  • 孔金属化流程可以分为两大类:即去钻污和化学沉铜。

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  • 在孔金属化的主要流程中,去钻污的前一个步骤是()。

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  • 下列是()目前去钻污流程使用最广泛的方法。

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  • 化学沉铜孔壁无铜,可能原因是去钻污不彻底。

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  • 下面属于去钻污的方法的是()。

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  • 等离子体法去钻污的特点是()。

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  • 用硫酸法去钻污时,硫酸呈深红色时溶液停止使用。

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  • 高锰酸钾法在去钻污时将胶渣氧化成的气体是()。

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  • 用硫酸法去钻污时,板子必须水平摆动,使硫酸溶液从孔内穿过。

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