A基本偏差制
B基准件制
C基轴制
D基孔制
基本偏差一定的孔的公差带,与不同基本偏差的轴的公差带形成各种配合的制度,称为()。
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基孔制中孔为基准件,其下偏差是基本偏差(代号为H),数值为0,上偏差为()。
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基孔制中孔为基准件,其下偏差是基本偏差(代号为H),数值为(),上偏差为正值。
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配合指基本尺寸相同的,相互结合的孔和轴公差带之间的关系。
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孔的尺寸减去相配合的轴的尺寸所得的差,其值为正时称为()。
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在公差带图中,公差带大小由()来确定。
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控制室安装的仪表中,()将来自变送单元的测量信号与设定信号进行比较,按照偏差发出控制信号,去控制执行器的动作,使测量值与设定值相等。
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根据加热温度及冷却速度的不同,热处理的基本工艺有淬火、回火、退火、正火等几种。
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电流表和电压表构成基本相同,只是产生旋转磁场线圈不同,电流表线圈导线粗、()。
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