填空题

热分解化学气相淀积二氧化硅是利用()化合物,经过热分解反应,在基片表面淀积二氧化硅。

正确答案

来源:www.examk.com

答案解析

相似试题
  • 有哪几种常用的化学气相淀积薄膜的方法?

    简答题查看答案

  • 二氧化硅的制备方法很多,其中最常用的是高温()、()淀积、PECVD淀积。

    填空题查看答案

  • 物理气相淀积最基本的两种方法是什么?简述这两种方法制备薄膜的过程。

    简答题查看答案

  • 低温淀积二氧化硅生长温度低、制作方便,但膜不够致密,耐潮性和抗离子沾污能力较差。()

    判断题查看答案

  • CVD淀积过程中两个主要的限制步骤是什么?它们分别在什么情况下会支配整个淀积速率?

    简答题查看答案

  • 热蒸发法淀积薄膜的淀积速率与哪些因素有关?淀积速率的测量采用什么办法?

    简答题查看答案

  • 外延生长方法比较多,其中主要的有()外延、()外延、金属有机化学气相外延、分子束外延、()、固相外延等。

    填空题查看答案

  • 延生长方法比较多,其中主要的有()外延、()外延、金属有机化学气相外延、()外延、原子束外延、固相外延等。

    填空题查看答案

  • 化学清洗中是利用硝酸的强()和强()将吸附在硅片表面的杂质除去。

    填空题查看答案