JB/T4730.4-2005标准规定：缺陷磁痕的观察应在磁痕形成后立即进行。
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JB/T4730.4-2005标准规定：磁粉检测时，长度小于等于0.5mm的缺陷磁痕不计。
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JB/T4730.4-2005标准规定：标准试片表面有锈蚀、褶折或磁特性发生改变时不得继续使用。
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JB/T4730.4-2005标准规定：当使用磁轭最大间距时，直流电磁轭至少应有177N的提升力。
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JB/T4730.4-2005标准规定：当辩认细小缺陷磁痕时应用2～10倍放大镜进行观察。
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JB/T4730.4-2005标准规定：长宽比大于3的缺陷磁痕，按线性缺陷处理，长宽比小于3的缺陷磁痕，按圆形缺陷处理。
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JB/T4730.4-2005标准规定：缺陷磁痕显示的记录可采用照相、录像和可剥性塑料薄膜等方式记录，同时应用草图标示。
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JB／T4730.4-2005标准规定：使用交叉磁轭时，四个磁极端面与检测面之间应尽量贴合，最大间隙不应超过1.5mm。
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JB/T4730.4-2005标准对缺陷磁痕显示记录是如何要求的？
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JB/T4730.4-2005标准规定：两条或两条以上缺陷磁痕在同一直线上且间距不大于2mm时，按一条磁痕处理，其长度为两条磁痕之和加间距。
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