正确答案
以蒸发沉积为基础发展了电子束蒸发沉积、分子束外延薄膜生长（MBE）、加速分子束外延生长；
以载能束与固体相互作用为基础，先后出现了离子束溅射沉积、脉冲激光溅射沉积（PLD）、强流离子束蒸发沉积、离子束辅助沉积（IBAD）、低能离子束沉积；
以等离子体技术为基础发展了等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、磁控溅射沉积等。
物理方法：真空蒸发沉积磁控溅射法离子束溅射沉积脉冲激光沉积（PLD）分子束外延（MBE）
化学方法：化学气相沉积（CVD）溶胶－凝胶法（Sol－Gel法）电沉积液相外延（LPE）化学束外延。