简答题

例出光刻的8个步骤,并对每一步做出简要解释。

正确答案

第一步:气相成底膜处理,其目的是增强硅片和光刻胶之间的粘附性。
第二步:旋转涂胶,将硅片被固定在载片台上,一定数量的液体光刻胶滴在硅片上,然后硅片旋转得到一层均匀的光刻胶图层
第三步:软烘,去除光刻胶中的溶剂
第四步:对准和曝光,把掩膜版图形转移到涂胶的硅片上
第五步:曝光后烘培,将光刻胶在100到110的热板上进行曝光后烘培
第六步:显影,在硅片表面光刻胶中产生图形
第七步:坚膜烘培,挥发掉存留的光刻胶溶剂,提高光刻胶对硅片表面的粘附性
第八步:显影后检查,检查光刻胶图形的质量,找出有质量问题的硅片,描述光刻胶工艺性能以满足规范要求。

答案解析

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