平版晒版中，主要应用的光敏物质是光分解型光敏物和光聚合型光敏物。

版基是印版图文的载体，起着支撑印刷图文的作用，而我们在平版晒版中所使用的PS版属于金属版基。

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在晒版过程中用到的化学药品有的属于光敏性物质，具有光不稳定性，有的具有强腐蚀性或剧毒性，而有的则是易燃易爆品，所以必须全面了解这些药品的基本性能，防止发生危险和不必要的事故。

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平版晒版的基本过程概括为：晒前准备、曝光成像、建立亲油性图文基础、建立亲水性空白基础。

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晒版时，使用的感光物尽管是光敏物，在光照下能发生化学反应，有时却能在亮室下而不必在暗室下操作。

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（）后对印版进行检查是晒版过程中的一次主要的质量自检。

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不是影响晒版曝光的主要因素的是：（）。

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物质受到光的照射作用，是否发生化学反应，与物体本身是不是光敏物没有关系。

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晒版机主要由机架、晒腔、（）和光源装置等四大部分组成。

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保证平版印刷正常进行主要基于水墨平衡，那么水墨平衡的主要原理在于（）。

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