平版晒版的基本过程概括为：晒前准备、曝光成像、建立亲油性图文基础、建立亲水性空白基础。

翻转型晒版机又可称为双面晒版机，它的装版准备和曝光可同时交替运行，工作效率高，封闭遮光性能好。

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晒版机的光源装置是为晒版机提供能量，独立组成的曝光系统装置。

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某条件下晒版面上的照度为2500lx，曝光80s，则曝光量为（）lx．S。

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平版晒版中，主要应用的光敏物质是光分解型光敏物和光聚合型光敏物。

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不是影响晒版曝光的主要因素的是：（）。

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晒版曝光过度会造成（）。

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版基是印版图文的载体，起着支撑印刷图文的作用，而我们在平版晒版中所使用的PS版属于金属版基。

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在曝光晒版前，如果咬口尺寸量度不准或原版移动，那么需要复校一次。

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感光版的感光特性主要是指曝光前后性能改变的快慢程度，它直接决定着晒版曝光的宽容度和网点的虚实度。

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