硅的还原从滴落带开始，还原的途径有三种：渣铁反应、渣焦反应、气相SiO₂还原，其中（）是硅还原的主要途径。

根据高炉内硅还原的机理，降低生铁含硅的途径是：首先是降低软熔带位置、缩小熔滴带高度；其次降低风口前燃烧温度，直接减少SiO的发生量；三是应减少入炉的SiO2量，降低炉渣中SiO2的活度。

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对烧结矿的要求是：粒度均匀，冷态强度高，有害杂质少，且还原性好，还原分化率低，软化、熔化、滴落三种温度较高且其范围窄。

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炼铁的还原剂主要有三种，即（）、（）和（）。

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硅的还原是在高炉的（）或（）上部才开始，达到（）水平面时达到最高，此时铁中含硅量是终铁含硅量的（）倍。

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炼铁的还原剂主要有三种，即碳、一氧化碳和（）。

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炼铁的还原剂主要有三种，即碳、一氧化碳和氮。

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硅的还原是按（）→（）→（）的顺序逐级进行的。

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减少高炉内硅的还原措施有（）。

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减少高炉内硅的还原措施有（）。

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