A对
B错
所有金属抗蚀层都可适用碱性蚀刻液,大部分金属不可用酸性蚀刻液,金除外。
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侧蚀程度的大小与蚀刻液的种类、组成和所使用的蚀刻工艺及设备有关。
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晶体硅片蚀刻清洗的生产工艺有酸性蚀刻和碱性蚀刻两种,其中酸性蚀刻是采用()和硝酸的混合溶液,醋酸和磷酸当缓冲剂,一般去除约10-20μm厚的表面层。
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酸性氯化铜蚀刻液的特点是蚀刻速率恒定,容易控制。
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碱性氯化铜蚀刻液是目前应用最广的图形蚀刻溶液。
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不适宜在碱性氯化铜蚀刻液中蚀刻的抗蚀层是()。
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酸性氯化铜蚀刻液用于蚀刻单面板和多层板的内层。
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碱性氯化铜蚀刻液pH值过低,氮水浓度太低,蚀刻速率变慢。
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下列为碱性氯化铜蚀刻液特点的有()。
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