A单相半控桥;
B三相半控桥;
C三相半波;
D三相双反星形。
采用氰化物镀液进行电镀时,可使用体积分数为3%~5%稀硫酸溶液进行活化处理,并可直接入槽进行电镀。
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赫尔槽试验在电镀生产和科研中有哪些用途?
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赫尔槽试验由于简单快速,在电镀过程中被广泛采用,可以用来()。
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光亮电镀用的电源宜采用()控制。
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电镀电源的波纹不能越小越好的是()。
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当车间镀铬零件批量不大、尺寸变化多时,应该选择()电镀电源。
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光亮镀铜工艺中,光亮剂的补充,可根据电镀过程中通入的电量和镀液的温度来计算。但不是固定不变的,最好经霍尔槽试验得出经验消耗量。
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在电镀过程中,要求临界电流()。
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超硬材料电镀制品基体的材质应当如何选择?基体机械加工成型有何特殊要求?
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