赫尔槽试验由于简单快速，在电镀过程中被广泛采用，可以用来（）。
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利用赫尔槽试验不宜研究（）。
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光亮镀铜工艺中，光亮剂的补充，可根据电镀过程中通入的电量和镀液的温度来计算。但不是固定不变的，最好经霍尔槽试验得出经验消耗量。
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某现场工艺员利用赫尔槽分析镀液中某一成分的影响，由于疏忽忘了更换镀液，做七、八次试验效果仍很理想，你认为他分析的镀液不可能是（）。
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赫尔槽阴极上电流密度，离阳极距离越近越大。
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电镀槽要求的直流电源为7V、1500A，最好采用（）电路。
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采用氰化物镀液进行电镀时，可使用体积分数为3%～5%稀硫酸溶液进行活化处理，并可直接入槽进行电镀。
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循环过滤在电镀生产中的应用越来越多，是因为它具有（）等优点。
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超硬材料电镀制品的制造和工艺方法和工艺装备都有哪些特点？
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