LPCVD紧随PECVD的发展而发展。由660℃降为450℃，采用增强的等离子体，增加淀积能量，即低压和低温。
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PECVD所采用的等离子种类有（）。
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简述低压CVD系统（LPCVD）的优缺点。
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LPCVD反应是受气体质量传输速度限制的。
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与APCVD相比，LPCVD有更低的成本、更高的产量以及更好的膜性能，因此应用更为广泛。
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LPCVD多晶硅和氮化硅等薄膜易形成保形覆盖，在低温APCVD中，非保形覆盖一般比较常见。
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立即威胁生命健康浓度的缩略语是（）。
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在寻址缩略语中，以下哪个缩略语代表双寻址操作数，且从DB上读取？（）
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选择性氧化常见的有（）和（），其英语缩略语分别为LOCOS和（）。
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