现有三个半导体硅样品,已知室温下(300K)它们的空穴浓度分别为p01=2.25×1015/cm3,p02=1.5×1010/cm3,p03=2.25×104/cm3 (1)分别计算这三个样品的电子浓度 (2)判别这三个样品的导电类型 (3)计算这三个样品的费米能级的位置
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室温下,施主浓度为1.0×1016cm-3的n型硅Si与铝Al形成金属与半导体接触,Al的功函数为4.30eV,Si的电子亲和能为4.05eV。已知,Nc=1019cm-3,k0T=0.026eV,ln1000=6.9。
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室温下,施主浓度为1.0×1016cm-3的n型硅Si与铝Al形成金属与半导体接触,Al的功函数为4.30eV,Si的电子亲和能为4.05eV。已知,Nc=1019cm-3,k0T=0.026eV,ln1000=6.9。
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室温下,施主浓度为1.0×1016cm-3的n型硅Si与铝Al形成金属与半导体接触,Al的功函数为4.30eV,Si的电子亲和能为4.05eV。已知,Nc=1019cm-3,k0T=0.026eV,ln1000=6.9。
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室温下,施主浓度为1.0×1016cm-3的n型硅Si与铝Al形成金属与半导体接触,Al的功函数为4.30eV,Si的电子亲和能为4.05eV。已知,Nc=1019cm-3,k0T=0.026eV,ln1000=6.9。
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现有三块半导体硅材料,已知室温下(300K)它们的空穴浓度分别为:p01=2.25×1016cm-3,p02=1.5×1010cm-3,p03=2.25×104cm-3
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现有三块半导体硅材料,已知室温下(300K)它们的空穴浓度分别为:p01=2.25×1016cm-3,p02=1.5×1010cm-3,p03=2.25×104cm-3
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现有三块半导体硅材料,已知室温下(300K)它们的空穴浓度分别为:p01=2.25×1016cm-3,p02=1.5×1010cm-3,p03=2.25×104cm-3
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现有三块半导体硅材料,已知室温下(300K)它们的空穴浓度分别为:p01=2.25×1016cm-3,p02=1.5×1010cm-3,p03=2.25×104cm-3
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