单选题
A电子
B中性粒子
C带能离子
正确答案
答案解析
略
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什么是溅射产额，其影响因素有哪些？简述这些因素对溅射产额产生的影响。
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常用溅射技术有哪几种，简述它们的工作原理和特点。
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离子注入是借其（）强行进入靶材料中的一个（）物理过程。
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位错就是由范性形变造成的，它可以使晶体内的一原子或离子脱离规则的周期排列而位移一段距离，位移区与非位移区交界处必有原子的错位，这样产生线缺陷称为位错。（）
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点缺陷，如空位、间隙原子、反位缺陷、替位缺陷，和由它们构成的复合体。（）
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杂质原子在半导体中的扩散机理比较复杂，但主要可分为（）扩散和（）扩散两种。
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