叙述H2还原SiCl4外延的原理，写出化学方程式。
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影响外延薄膜的生长速度的因素有哪些？
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外延生长方法比较多，其中主要的有（）外延、（）外延、金属有机化学气相外延、分子束外延、（）、固相外延等。
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简述外延薄膜的生长过程，其最显著的特征是什么？
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外延层的迁移率低的因素有原材料纯度（）；反应室漏气；外延层的晶体（）；系统沾污等；载气纯度不够；外延层晶体缺陷多；生长工艺条件不适宜。
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什么是固相外延（SPE）及固相外延中存在的问题？
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硅外延生长工艺包括（）。
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硅外延片的应用包括（）。
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延生长方法比较多，其中主要的有（）外延、（）外延、金属有机化学气相外延、（）外延、原子束外延、固相外延等。
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