在X射线荧光光谱分析中，样品中除分析元素以外的全部元素为基体，基体元素对分析元素的影响叫基体效应。
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X射线荧光光谱分析的基体效应的数学校正一般分为三类，即（）。
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X射线荧光光谱分析康普顿散射线内标法不能校正基体的吸收效应，只能校正增强效应。
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X射线荧光光谱分析中，当基体效应是增强效应时，将使所得被测元素的结果偏低。
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X射线荧光分析时基体效应的基体与光电直读光谱分析用的铁基样品、镍基样品、铬基样品的铁基、镍基、铬基含意是一样的。
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X射线荧光分析时基体效应的基体，是指分析时试样中除（）元素本身外其它所有的元素。
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X射线荧光光谱法中，当试样的有效照射面积缩小时，元素的X射线荧光强度（）。
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X射线荧光光谱法中，分析微量Si的样品不能用（）磨料抛光。
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X射线荧光光谱法中，处理粉末样品的方法主要有压片法和（）
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