例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
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在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么?
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解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低?
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若计划用图示中掩膜版上黑色区域在硅片上制作扩散区,光刻时需要使用哪种光刻胶?为什么?并简介光刻操作流程。
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最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶?
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简述;写出聚乙烯醇肉桂酸酯光刻胶的结构式和交联反应方程式。
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根据成像结果的不同,光刻胶可分为哪两种类型,其中哪种成本较低且应用较早?
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解释扫描投影光刻机是怎样工作的?扫描投影光刻机努力解决什么问题?
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光刻和刻蚀的目的是什么?
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