解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
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在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？
什么是干法刻蚀？什么是湿法刻蚀？比较二者的优缺点。
什么是负性光刻？正性光刻？
解释扫描投影光刻机是怎样工作的？扫描投影光刻机努力解决什么问题？
干法刻蚀有哪几种？相应的内容是什么？
光刻的本质是什么？
定义刻蚀速率并描述它的计算公式。为什么希望有高的刻蚀速率？
光刻中采用步进扫描技术获得了什么好处？
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