若计划用图示中掩膜版上黑色区域在硅片上制作扩散区，光刻时需要使用哪种光刻胶？为什么？并简介光刻操作流程。
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例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。
什么是硅化物？难熔金属硅化物在硅片制造业中重要的原因是什么？
解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？
简述；写出聚乙烯醇肉桂酸酯光刻胶的结构式和交联反应方程式。
光刻和刻蚀的目的是什么？
天然橡胶为什么要冲洗？天然橡胶温胶的目的是什么？
什么是外延层？为什么在硅片上使用外延层？
例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
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