离子束曝光，即用在大规模集成电路制作中，与电子束相比有更高的灵敏度和分辨率。
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微细加工工艺方法主要有：（），光刻加工，体刻蚀加工技术，面刻蚀加工技术，LIGA技术，（）和（）。
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随着数字信号处理理论和超大规模集成电路的发展，（）均衡已成为如今高速数据传输中所使用的主要方法。
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用半导体的微细加工技术，在非晶基片上通过使用微细的表面结构，考察了单晶成长方法，并命名为（）
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微细加工工艺方法
名词解析查看答案
简述微细加工工艺方法。
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电子技术的发展主要经历了电子管、（）、集成电路、大规模和超大集成电路4个阶段
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没有CMP，就不可能生产甚大规模集成电路芯片。
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集成电路的发展时代分为（）、中规模集成电路MSI、（）、超大规模集成电路VLSI、（）。
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