A负胶的感光区域溶解
B正胶的感光区域溶解
C负胶的感光区域不溶解
D正胶的感光区域不溶解
E负胶的非感光区域溶解
关于正胶和负胶的特点，下列说法正确的是（）。
多选题查看答案
有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。
去正胶常用的溶剂有（）
下列哪些因素不会影响到显影效果的是（）。
单选题查看答案
下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。
晶片经过显影后进行坚膜，坚膜的主要作用有（）。
下列有关ARC工艺的说法正确的是（）。
下列有关曝光系统的说法正确的是（）。
（）是通过把被蒸物体加热，利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。
分享
语音搜题
拍照搜题
打赏
