A投影式同接触式相比，掩模版的利用率比较高
B接触式的分辨率优于接近式
C接近式的分辨率受到衍射的影响
D投影式曝光系统中不会产生衍射现象
E投影式曝光是目前采用的主要曝光系统
下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。
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下列有关ARC工艺的说法正确的是（）。
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有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。
关于正胶和负胶的特点，下列说法正确的是（）。
关于正胶和负胶在显影时的特点，下列说法正确的是（）。
按曝光的光源分类，曝光可以分为（）。
在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA的含义是（）。
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