下列有关曝光系统的说法正确的是（）。
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关于正胶和负胶的特点，下列说法正确的是（）。
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关于正胶和负胶在显影时的特点，下列说法正确的是（）。
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下列有关ARC工艺的说法正确的是（）。
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有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。
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按曝光的光源分类，曝光可以分为（）。
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涂胶以后的晶片，需要在一定的温度下进行烘烤，这一步骤称为（）。
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在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。
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在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。
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