化工过程测量中，（）测量易引入纯滞后。

当调节过程不稳定时，可以增加积分作用或增大比例度；对纯滞后大的调节对象，可以引入微分作用。

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化工生产过程中，仪表测量的五大参数为（）、（）、（）、（）、（）。

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调节对象的纯滞后过大，可以引入微分作用加以克服。

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测量滞后一般由（）引起，克服测量滞后的办法是在调节规律中（）。

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引起测量滞后最不可能的原因是由于（）引起的。

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调节系统中采用微分作用可以消除纯滞后。

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纯滞后时间长，将使系统超调量增加，干扰通道中的纯滞后对调节品质（）。

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仪表测量中的五大过程参数是（）、（）、（）、（）、（）。

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在整个测量过程中保持不变的误差是（）误差。

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