投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。

在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。

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比较投影掩模版和光学掩模版有何异同？说明采用什么技术形成投影掩模版上的图形？

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随着铜布线中大马士革工艺的引入，金属化工艺变成刻蚀（）以形成一个凹槽，然后淀积（）来覆盖其上的图形，再利用（）把铜平坦化至ILD的高度。

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航片上的投影差是由（）引起的像点位移

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BZA 201 10电源的整流器面版上的P1代码表示（），P2代码表示（）。

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（）是由封闭图形所形成的二维实心区域，它不但含有边的信息，还含有边界内的信息，用户可以对其进行各种布尔运算。

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平板仪测图是采用（）投影方法和图上图形与地面图形（）原理成图的。

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平板仪测图是采用（）投影方法和图上图形与地面图形（）原理成图的。

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用正投影法所绘制的物体图形称为（）。

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