钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是（）杂质。

二氧化硅层中的钠离子可能来源于（）。

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解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。

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表示杂质在硅-二氧化硅界面处重新分布的性质和程度，习惯上常用（）。

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下列物质中是结晶形态二氧化硅的有（）。

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离子源的作用是使所需要的杂质原子电离成（）离子，并通过一个引出系统形成离子束。

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由于离子交换树脂反应，它既可以去除水中杂质离子，又可以将失效树脂进行处理，恢复交换能力，所以称为（）反应。

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二氧化硅生长过程中，当分凝系数小于1时，会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度（）。

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硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳定性影响最大的离子是（）。

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离子源的基本结构是由产生高密度等离子体的（）和引出部分组成。

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