硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳定性影响最大的离子是（）。

二氧化硅生长过程中，当分凝系数小于1时，会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度（）。

单选题查看答案

晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的（）使得在刻蚀多晶硅电极时对它的刻蚀要尽可能的小。

单选题查看答案

电子元器件的主要参数有哪几项？

简答题查看答案

试总结电子元器件大致分为几代；对电子元器件的主要要求是什么？

简答题查看答案

请说明SMT中元器件贴片机的主要结构是什么？

简答题查看答案

硅晶片上之所以可以产生薄膜，出始于布满在晶片表面的许多气体分子或其它粒子，它们主要是通过（）到达晶片表面的。

单选题查看答案

半导体硅常用的施主杂质是（）。

单选题查看答案

半导体硅常用的受主杂质是（）。

单选题查看答案

当热氧化的最初阶段，（）为限制反应速率的主要原因。

单选题查看答案