离子源的作用是使所需要的杂质原子电离成（）离子，并通过一个引出系统形成离子束。

离子源的基本结构是由产生高密度等离子体的（）和引出部分组成。

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在空位扩散中，如果迁移的空位的原子是杂质原子，扩散称为（）。

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对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用（）方法引入到硅片中。

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钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是（）杂质。

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电离气体与普通气体的不同之处在于：后者是由电中性的分子或原子组成的，前者则是（）和中性粒子组成的集合体。

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（）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。

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由于离子交换树脂反应，它既可以去除水中杂质离子，又可以将失效树脂进行处理，恢复交换能力，所以称为（）反应。

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离子源产生的离子在（）的加速电场作用下得到加速。

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在实际工作中，常常需要知道离子注入层内损伤量按（）的分布情况。

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