硅的还原顺序是SiO2→SiO→Si。

硅的还原量与温度和SiO2的活度成正比；而增大[Si]的活度系数或CO气体的分压，都会使[Si]%下降。

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硅的还原从滴落带开始，还原的途径有三种：渣铁反应、渣焦反应、气相SiO2还原，其中（）是硅还原的主要途径。

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铁中的Si是从炉渣中SiO2和焦碳灰分中的SiO2还原出来的。

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根据高炉内硅还原的机理，降低生铁含硅的途径是：首先是降低软熔带位置、缩小熔滴带高度；其次降低风口前燃烧温度，直接减少SiO的发生量；三是应减少入炉的SiO2量，降低炉渣中SiO2的活度。

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硅在高炉内的还原顺序是按SiO2→（）→逐级进行的。

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硅的还原是按（）→（）→（）的顺序逐级进行的。

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高炉每批料理论出铁量25t，炉温[Si]0.30%，求SiO2消耗量？

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初渣中FeO和MnO的含量很高，是因为铁、锰氧化物还原出来的FeO和MnO与SiO2结合后能形成低熔点的硅酸盐，如2FeO·SiO2在1100－1209℃即可熔化。

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熔剂性烧结矿之所以好还原，是因为CaO对SiO2的亲和力比（）高，它能分离出硅酸铁，减少烧结矿中硅酸铁含量。

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